【美股新聞】台積電稱無需ASML新機器即可製造下一代晶片

台積電(TSM)表示，開發中的A16晶片製造技術無需依賴ASML的最新高數值孔徑極紫外光(EUV)設備。

技術與成本評估 在阿姆斯特丹的一場會議上，台積電業務開發資深副總裁張曉強指出，儘管高high-NA EUV技術可以將晶片設計尺寸縮小三分之二，但其高昂的成本和現有技術的可靠性是公司需要權衡的因素。台積電是ASML現有EUV機器的最大用戶，這些設備的成本為2億歐元，而新型高NA設備的價格超過3.5億歐元。

產業影響 ASML作為歐洲最大的科技公司，在光刻系統市場佔有主導地位，這些系統利用光束來創建晶片的電路。光刻技術是晶片製造中提升性能的關鍵技術之一，也是晶片設計尺寸能達到的限制因素。

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